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作者通过理论计算揭示了少层化的Ni3Ge2O5(OH)4纳米片与多片层的Ni3Ge2O5(OH)4纳米片相比具有更佳的电催化活性，威工同时发现少层纳米片的(100)晶面与(001)晶面相比拥有更低的OER中间体吸附自由能。单层的Ni3Ge2O5(OH)4纳米片表现出了优于多层纳米片的OER性能，关注主要得益于少层、关注小尺寸的纳米片有更高的电化学活性面积以及更多的高活性(100)晶面的暴露。

2.通过调节合成温度，绿色成功制备了厚度从1层到10层不同厚度和尺寸的Ni3Ge2O5(OH)4纳米片，无需额外剥离过程就可得到准单层的纳米片。这其中，放数准单层的纳米片只有1-2个单片层的厚度和更小的尺寸，可带来更多的高活性(100)晶面暴露，从而促进了OER反应的明显提高。字生图3 OER性能研究(a)OER极化曲线。

锗元素虽然没有电催化活性，态系统但是锗的存在对于蛇纹石结构电极材料的晶体生长和电子能带起到了重要影响。汉诺和开【图文导读】图1 Ni3Ge2O5(OH)4 纳米片的晶体结构和DFT理论计算结果。

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关注投稿以及内容合作可加编辑微信：cailiaorenvip。2004年在武汉理工大学获工学博士学位，绿色随后在中国科学院外籍院士美国佐治亚理工学院王中林教授课题组、绿色美国科学院院士哈佛大学CMLieber教授课题组、美国加州大学伯克利分校杨培东教授课题组从事博士后、高级研究学者研究。

放数（b）SiO2/Ni分级空心微球的SEM图像。2.1、字生SiO2的锂化行为 在早期研究中，认为SiO2对Li是电化学惰性的。

态系统 Figure20.（a）NiSix@SiOx异质结构纳米线的TEM和SEM（插图）图像。（b）SiO、汉诺和开HEMM处理的d-SiO（3h）和HEMM处理的d-SiO（10h）的循环性能。